光学掩模版
guāng xué yǎn mó bǎn ㄍㄨㄤ ㄒㄩㄝˊ ㄧㄢˇ ㄇㄛˊ ㄅㄢˇ

词语解释

拼音
guāng xué yǎn mó bǎn
拼音字母
guang xue yan mo ban
拼音首字母
gxymb
注音
ㄍㄨㄤ ㄒㄩㄝˊ ㄧㄢˇ ㄇㄛˊ ㄅㄢˇ
注音符号
ㄍㄨㄤ ㄒㄩㄝ ㄧㄢ ㄇㄛ ㄅㄢ
更新时间
2026-07-15 21:03:11

百科释义

  1. 光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。

组词